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sputtering rf sputtering 스퍼터링 magnetron sputtering RF-magnetron sputtering 반도체 공정 박막증착

EasyAI “rf sputtering” 관련 자료

+반도체 공정 term project등록일 2023.06.22 | 총 14,368자 | 11페이지 | 5,000원
+P-N junction을 이용한 금속..등록일 2023.03.08 | 총 1,514자 | 3페이지 | 2,000원

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"rf sputtering" 검색결과 1-20 / 337건

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RF-magnetron sputtering을 이용한 TiIZO 기반의 산화물 반도체에 대한 연구

을 이용하여 RF-magnetron co-sputtering system 방식으로 상온에서 증착하였으며, 어떠한 열처리도 하지 않았다. Ti의 첨가가 어떠한 영항을 주는지 연구하기 ... 자리의 형성을 억제하기 때문이다. Ti의 rf power가 40W일 때 가장 좋은 특성을 나타냈으며, 전류점멸비, 전자이동도, 문턱전압, subthreshold swing이 각각 ... 위해 X-ray diffraction(XRD), X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) 분석을 시행하였으며, 전기적인 특성을 측정하였다. Ti의 첨가

논문 | 7페이지 | 무료 | 등록일 2025.02.10 | 수정일 2025.02.15

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RF 마그네트론 스퍼터링으로 증착된 AlOx 봉지 박막을 갖는 OLED 소자의 수명 특성 (Life time characteristics of OLED device with AlOx passivation film deposited by RF magnetron sputtering)

film on glass substrate and polyethylene terephthalate(PET) substrate by RF magnetron sputtering ... terephthalate(PET) substrate by RF magnetron sputtering for the transparent barrier film applied to ... formed when the partial volume ratio of oxygen was 20% and the sputtering power was 100 watt and the

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.13 | 수정일 2025.03.28

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나노 분말 타겟을 사용하여 고주파 마그네트론 스퍼터링 방법에 의해 제작된 ITO 박막의 투명전도 특성 (Tramsparent conducting properties of ITO films prepared by rf-magnetron sputtering method using a nano powder target.)

deposited on glass substrates by using rf-magnetron sputtering method and a powder with nano sized ... 과 광학적 특성은 n-ITO 박막이 m-ITO 박막에 비해 현저하게 개선된표면조도 (surface roughness)와 밀접한 관계가 있음을 보여준다. ITO films were ... with micron sized particle. The n-ITO films deposited at room temperature in pure Ar gas were

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.17 | 수정일 2025.03.28

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졸-겔 법 및 스퍼터링 법으로 제작한 p-NiO/n-ZnO 이종접합 소자의 특성조사 (Characterization of p-NiO/n-ZnO Heterojunctions Fabricated by Using Sol-gel and RF-sputtering Techniques)

using sol-gel and RF-sputtering techniques. The amorphous p-type and n-type layers showed typical s ... -type NiO and n-type ZnO thin films were fabricated by using sol-gel and RF-sputtering techniques. The ... % in the visible region. These results suggest that all-inorganic metal-oxide heterojunctions may

논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.17 | 수정일 2025.03.28

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RF sputtering

RF sputtering(1) sputtering plasma 발생 oscillating power source를 사용하므로 DC방법보다 많은 장 점이 있다.- 부도체재료를 s ... 도체일 필요는 없다. 효과적인 sputtering을 위해서는 coupled electrode의 키기가 direct electrode의 크기보다 작아야 한다. RF 발생기를 직접 ... 반응을 이용하여 절연막을 증착시키는 방법도 사용된다.거의 모든 물질이 RF discharge에서 sputter되지만, 생성된 막이 target의 조성과 반드시 일치하지는 않

리포트 | 12페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

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RF reactive magnetron sputtering으로 제조한 TiO2 박막의 구조 및 광학적 특성

한국재료학회 강계원, 이영훈, 곽재천, 이동구, 정봉교, 박성호, 최병호

논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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RF magnetron sputtering법에 의해 제조된 SrBi2Ta2O9박막의 강유전 특성에 관한 연구

한국재료학회 박상식, 양철훈, 윤순길

논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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연속 ECR-CVD 조업하에 RF-magnetron-sputter의 싸이클조업을 통해 PET위에 올려진 구리박막의 특성

한국재료학회 명종윤, 전법주, 변동진, 이중기

논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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RF sputtering

에 플라즈마가 없어지게 된다. 이러한 현상 때문에 부도체를 sputtering, etching 등을 할 때는 교류전원을 사용한다. 교류 전원을 사용하면Electrode에 부착 ... 1. Plasma(RF Sputtering)a. basic concept플라즈마 상태는 고체, 액체, 기체 이외의 물질의 제4의 상태라고 불리워진다. 이러한 플라즈마는, 분자

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.12.06

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Fabrication and Electric Properties of LiNbO3 Thin Film by an Rf-magnetron Sputtering Technique Li-Nb-K-O Ceramic Target (Rf-magnetron sputtering 방법으로 Li-Nb-K-O 세라믹 타겟을 사용하여 제작한 LiNbO3박막의 제작 및 전기적 특성)

한국재료학회 Park, Seong-Geun, Baek, Min-Su, Bae, Seung-Chun, Gwon, Seong-Yeol, Kim, Gwang-Tae, Kim, Gi-Wan

논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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RF-magnetron sputtering 기법을 이용한 박막형 강유전체의 특성평가

실험 예비 REPORT━━━━━━━━━━(RF-magnetron sputtering 기법을 이용한 박막형 강유전체의 특성평가)소 속재료공학부담당교수교수님학 년3학년분 반003학 ... 다.② RF sputtering : 교류전지에서 플라즈마를 이용하여 Sputtering을 하는 방법으로 금속 target뿐만 아니라 절연체나 반도체도 target으로 사용가능하며 이것 ... puttering : 자기장을 이용하여 플라즈마 속에서 sputtering 하는 방법으로 이 방법은 효율이 매우 높다.○ RF sputtering① Self bais : RF s

리포트 | 13페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.01.25

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IGZO, ZnO, AZO OMO 구조의 Ag두께 변화에 따른 투과율과 에너지 밴드 갭의 변화 (Change in the Energy Band Gap and Transmittance IGZO, ZnO, AZO OMO Structure According to Ag Thickness)

본 연구에서는 RF magnetron sputter와 Thermal evaporator로 Ag 두께의 변화에 따라 증착한 IGZO, ZnO, AZO OMO 박막의 투과도 특성 ... Torr, 반응가스 Ar 25 sccm, 증착온도는 실온으로 고정하였으며, RF 파워는 30 W로 고정하였다. 공정변수로는 Ag 두께를 3 nm~15 nm까지 2 nm 단위로 증가 ... oxide (ZnO), aluminum zincoxide (AZO). oxide and silver are deposited by magnetron sputtering and

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.15 | 수정일 2025.03.28

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버퍼 층을 이용한 RF 마그네트론 스퍼터 방법에 의한 Al:ZnO 박막의 성장 (Characterization of Al-Doped ZnO Thin Film Grown on Buffer Layer with RF Magnetron Sputtering Method)

Al이 도핑된 투명 전도성 Al:ZnO (AZO) 박막에 대한 RF magnetron sputtering증착 법을 이용한 저온 최적공정조건을 연구하였다. 투명전극 재료 ... 로써의 AZO박막의 전기적, 결정학적 물성을 최대한 향상시키기 위해서, in-situ상태에서 유리기판상에 최적화된 증착 조건의 AZO 버퍼 층을 삽입하는 이중박막 구조를 제작하였다. RF ... temperature deposition of transparent conductive Al-doped zinc oxide (AZO) films is studied by RF

논문 | 8페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.04 | 수정일 2025.03.06

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Gd3Ga5O12 기판위에 성장된 Y3Fe5O12 박막의 열처리 조건에 따른 강자성 공명 특성 연구 (Effect of the Annealing Conditions on the Ferromagnetic Resonance of YIG Thin Film Prepared on GGG Substrate)

, GGG) substrate. The YIG thin films were grown by rf magnetron sputtering at room temperature and ... by rf magnetron sputtering at room temperature and were annealed at various temperatures from 700 to ... In this study, we investigated the effect of annealing conditions on the ferromagnetic resonance

논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.13 | 수정일 2025.03.28

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RF Magnetron Sputtering법으로 제작된 (Pb0.92La0.08)(Zr0.65Ti0.35)O3 박막의 Ar/O2 분압비에 따른 강유전 특성연구 (The Effect of Ar/O2 Partial Pressure Ratio on the Ferroelectric Properties of (Pb0.92La0.08)(Zr0.65Ti0.35)O3 Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering Method)

rf magnetron sputtering 법을 이용하여 Pt/Ti/SiO2/Si 기판 위에 buffer layer인 TiO2 층을 증착한 후 PLZT 강유전체 박막을 증착 ... ferroelectric thin films were deposited on Pt/Ti/SiO2/Si substrate with TiO2 buffer layer in between by rf ... magnetron sputtering method. In order to investigate the effect of Ar/O2 partial pressure ratio on

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.13 | 수정일 2025.03.28

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산소 어닐링이 마그네 트론 스퍼터링으로 증착된 undoped ZnO 박막의 구조적, 광학적, 전기적 특성에 미치는 영향에 대한 연구 (A Study on the Effect of O2 annealing on Structural, Optical, and Electrical Characteristics of Undoped ZnO Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering)

. ZnO films were deposited onto SiO2/Si substrates by RF magnetron sputtering from a ZnO target. The ... +Ar)) of 0.2, RF power of 240W, substrate temperature of RT, annealing condition of 600℃ for 20 min ... , and sputtering pressure of 20 mTorr. 대한전자공학회 전자공학회논문지 - SD 윤의중, 박형식

논문 | 8페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.06

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SiO2 버퍼층을 갖는 PET 기판위에 증착한 IZTO 박막의 전기적 및 광학적 특성 (Electrical and Optical Properties of the IZTO Thin Film Deposited on PET Substrates with SiO2 Buffer Layer)

substrate with different RF power of 30 to 60W, working pressure, 1 to 7mTorr, by RF magnetron s ... 으로 100nm 의 두께로 증착하였다. IZTO 박막은 RF 마그네트론 스퍼터링법으로 RF 파워는 30~60W 로, 공정 압력은 1~7mTorr 로 변화시켜가며 SiO2/PET 에 증착 ... 하여 IZTO 박막의 구조적, 전기적, 광학적 특성을 분석하였다. RF 파워 50W 와 공정 압력 3mTorr 에서 증착한 IZTO 박막이 4.53×10-3/Ω 의 제일 큰 재료평가

논문 | 7페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.13 | 수정일 2025.03.28

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2019 상반기 LG 디스플레이 R&D 자기소개서

는, 증착 시 충분한 에너지를 공급해야 한다고 생각했습니다.마지막으로, 충분한 에너지를 공급하는 방안을 생각했습니다. 실험에서 사용한 장비는 DC/RF Sputter입니다. 이 장비 ... 에서 에너지를 공급하는 방법은 크게 두 가지로 RF Power와 기판 온도입니다. 이에 RF Power를 변경하여 광투과도를 70%까지 향상했습니다. 여기서 실험을 종료하지 않

자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.05.18

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Textured-AZO/AZO/Glass 투명전극을 갖는 염료감응 태양전지의 광전변환 특성 (Photoelectric Conversion Properties of Dye-sensitized Solar Cell in the Transparent Electrode of Textured-AZO/AZO/Glass)

RF magnetron sputtering process and investigated their properties of electrical, optical, and ... %) 보다는 낮았다. 위 현상들을 종합한 결과 texured AZO 박막은 염료감응 태양전지의 저비용 투명전극으로 사용할 수 있음을 알 수 있었다. We were studied that ... AZO conductive thin film can substitute for FTO electrode in dye sensitized solar cell. Three types

논문 | 7페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.13 | 수정일 2025.03.28

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반도체 공정 term project

DC/RF sputteringAbstarct(혹은 초록)Sputtering은 Chamber내에 공급되는 가스에서 발생되는 전자 사이의 충돌로부터 시작된다. 그 과정을 보 ... 한 Sputtering 방법으로 구조가 간단하며 가장 표준적인 sputter 장치이다. DC spttering방법의 경우 target이 산화물이절연체 일 경우 Spttering되지 않아 이러 ... 한 단점을 해결할 수 있는 방법이 RF Sputtering이다. RF Sputtering방법은 target이 금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 s

리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.06.22

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