"E-beam lithography" 검색결과 101-103 / 103건

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  [직접회로] 리소그라피

  ..PAGE:1리소그라피..PAGE:2사진식각공정(lithography)목적: 마스크 패턴을 웨이퍼로 옮기는 과정종류: 광사진식각, E-beam사진식각, X-선사진식각광사진식각 ... :광을 이용하여 회로 패턴을 웨이퍼표면에 형성하는 것E-beam사진식각: 전자가 갖는 파장을 이용하므로 미세패턴을 얻을수 있다.단점: 소요시간이 길고 장비가 비싸다.X-선사진식각 ... : X-선을 이용하는 것으로 마스크 제작이 어렵다...PAGE:3공정 순서표면처리->PR코팅->소프트베이크->정렬,노출->현상->하드베이크->식각->PR제거..PAGE:4감광제감광제

  리포트 | 32페이지 | 2,000원 | 등록일 2002.12.22

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  식각 공정

  (Computer Aided Design)시스템을 사용하여 전자회로와 실제 웨이퍼 위에 그려질 회로패 턴을 설계함.5.MASK(RETICLE)제작설계된 회로패턴을 E-beam 서리로 유리판 ... - Lithography 공정 (조교가 수행)(2) 패턴된 산화막의 표면, 표면 색깔과 패턴 관찰 ----------- 광학현미경 관찰(3) 산화막의 식각 -------------- ... 의 산화막의 색깔 변화를 관찰하여 식각된 두께를 측정하고 식각에 의하여 형성된 패턴의 모양을 관찰한다.4. 실험절차(1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) -------

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.07.03

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  [신소재공학] 자기메모리 기술에 관하여

  . MRAM 도식도5. 향후 전망이러한 소자들을 제작하기 위해서는 기존의 발상을 뛰어넘는 신개념의 설계 및 공정 기술들이 필요하다. 기존의 Litho. 기술(E-beam/ EUV ... 고서는노구조를 형성하는 Top-down 방식과 함께 원자나 분자를 벽돌 쌓듯이 조합하여 나노구조를 만드는 Bottom-up 방식이 포괄적으로 적용될 것이다.(2) CNT(Carbon ... 하고 반도체 CNT만을 얻는 수 있는 기술을 개발했다.{ 그림 2. Single-walled CNT를 Au 전극에 연결한 NOR형 SRAM.금속 CNT를 초고집적회로의 배선으로 적용

  리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.03.23

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