주사전자현미경(SEM)

소개

SEM 분석이유와 필요성, SEM sample 제작 방법과 유의점, Electron의 발생원리 및 image를 형성하는데 사용 되는 요소및 원리,SEI(secondary electron image) 촬영 시 발생할 수 있는 각종 상 장애(image error) 현상 및 해결 방안등에 대해 조사한 레포트 입니다.

목차

SEM 분석이유와 필요성

SEM sample 제작 방법과 유의점
1. 일반시료 제작법
2. 시료제작에 필요한 물품
3. 코팅의 목적과 방법
4. 비생물 시료 제작법
5. 생물 식물시료의 제작법

Electron beam의 발생원리 및 image를 형성하는데 사용 되는 요소

1. Electron beam의 발생원리
2. Image를 형성하는데 사용 되는 요소
3. 주사전자현미경의 구성

SEI(secondary electron image) 촬영 시 발생할 수 있는 각종 상 장애(image error) 현상 및 해결 방안

1. 화상교란의 유형
2. 전자선과 시편 사이의 반응에 의한 화상 변화
3. 작동방법, 시편 전처리 기술, 외부교란 등의 화상에 대한 영향
4. 기기적 결함에 의해 발생되는 교란

본문내용

전자현미경에는 크게 나누어 투과전자현미경 (Transmission Electron Microscope)과 주사
전자현미경(Scanning Electron Microscope)으로 구분할 수 있다. 이의 구조상 차이는 광학현미경의 투과형과 반사형의 차이와 같다고 하겠으며 시료를 준비 하는 작업 역시 광학현미경의 그것으로 투과전자현미경과 주사전자현미경을 구분 지어도 크게 무리는 없을 것이다. 투과전자현미경 에서는 고에너지를 갖는 전자선이 전자렌즈계를 거쳐 시료를 통과하여 형광판에 상을 맺게 되므로 그 시료는 극히 얇아야 된다는 것을 전제 조건으로 하고 시료의 밀도, 두께등의 차이에 따른 명암(contrast)상을 얻을 수 있다. 또한 시료에 도달하는 전자선을 회절시켜 회절상을 얻을 수 있으므로 원소내부의 정보도 얻을 수 있다. 그러나 주사 전자현미경은 상을 얻는 방법이 아주 달라 전자선이 시료면위를 면상으로 주사(Scanning) 할 때 시료에서 발생되는 여러거지 신호중 그 발생확률이 가장 많은 이차전자 (Secondary Electron) 또는 반사전자(Backscattered Electron)를 신호원으로 CRT( Chthode Ray Tube)상에 시료와 동시에 주사시켜 한 면(Frame)의 화면을 만든다. 따라서 주사전자현미경에서는 주로 시료표면의 정보를 얻을 수 있고 시료 크기 및 준비에 크게 제약을 받지 않는다. 현재 이 두종류의 전자현미경은 각기 다른목적으로 발전되고 사용되어져 왔으나 투과형 전자현미경의 주사형 전자현미경에 비해 그 구조상 복잡성과 운전이 쉽지 않은 점, 가격이 비싼점등 때문에 주사전자현미경이 그 보급률에서는 앞서가고 있다. 응용에 있어서 투과 전자현미경은 금속, 세라믹, 반도체, 고분자합성체 등의 재료분야, 의학등의 생체시료 조직 관찰에 주로 사용되고 주사전자 현미경은 거의 모든분야에서 광학현미경의 영역을 커버하며 이에 분석장비를 추가하여 분석장비로써의 영역도 확보해 나가고 있다.

참고자료

· 없음