필름의 두께와 annealing 온도가 SiNx의 광학적특성(optical property)에 미치는 영향

소개글

필름의 두께와 annealing 온도가 SiNx의 광학적특성에 미치는 영향입니다.
2008년 저널에 실린 논문을 분석하여 모르는 사람들에게 알기쉽게 설명했던 자료입니다
슬라이드 노트로 발표때 언급해야할 코멘트까지 상세히 적어놓았으니
그대로 읽으시기만 하면 됩니다.부디 잘 참고하시어 좋은 결과 있기를 바랍니다.

목차

1. Introduction

2. Experiment

3. Data

4. Discussion

5. Conclusions

본문내용

The optimum annealing temperature for the maximum PL yield strongly depends on the film thickness and varies from 800 to 1200 °C.
The PL intensity is directly related to the content of the Si–-N bonds in the SiNx films.
Excessively high annealing temperatures lead to weakened Si–-N bonds
(which effectively control the PL intensity)
in thinner SiNx films, which eventually results in a lower PL intensity.

참고 자료

Visible photoluminescence from plasma-synthesized SiO2-buffered SiNx films, Effect of film thickness and annealing temperature,the journal of applied physics,