[디스플레이]홀로그래피 광학소자 설계 및 제작기술

소개글

1.홀로그래피 기술개요
2.국내 기술 동향
3.해외기술동향
4.국내 시장동향
5.해외 시장 동향
6.기술 평가서

목차

1.홀로그래피 기술개요
2.국내 기술 동향
3.해외기술동향
4.국내 시장동향
5.해외 시장 동향
6.기술 평가서

본문내용

1.홀로그래피 기술개요

홀로그래피에 대한 방법으로 제작된 회절격자의 경우 제작이 용이하며 격자간격이 일정하고 격자 간격을 대단히 좁게 할 수 있어 감광 재료의 종류에 따라서 최고 10000 lines/mm 까지 분해능을 얻을 수 있다. 평면형과 체적형으로 구분되는데 평면형은 입사 빛이 여러 방향을 회절 되어 효율이 낮지만 체적형은 한 방향으로 회절 되어 효율이 높다. 또 평면형은 입사각을 변화시키면 회전효율이 크게 변화하지 않으나 체적형은 입사각이 조금만 변하여도 회절효율이 크게 변화하여 회절현상이 일어나지 않는다.

*홀로그래피 특징
①한 개의 HOE로 다기능을 얻을 수 있다. 하나의 소자가 렌즈와 광속분할기 간섭필터의 역할을 할 수 있다.
②여러 개의 HOE를 기록할 수 있다.
③재래식 광학소자는 표면 가공을 통해 얻어지므로 제작이 어려우나 HOE는 감광 재료에 사진촬영과 같은 방법으로 기록하여 얻을 수 있어 대량생산이 가능하다.
④HOE는 박막형소자이므로 얇고 가볍다.
⑤HOE는 대개 off-axis type으로 제작되기 때문에 큰 수차를 갖는다. 그러나 0n-axis type으로 제작도 가능하다.
⑥HOE는 여러 Cohernet 빔으로 형성된 간섭무늬를 기록하여 제작하므로 상대적으로 비구면렌즈의 성질을 갖는 HOE를 제작하기 쉽다.
⑦HOE에 의해 회절된 빛의 방향은 HOE표면의 fringe 구조에 의해 결정되는 반면 빛의 회절효율은 fringe방향과 굴절율 변조 등과 같은 내부fringe에 의해 결정된다.

참고 자료

없음