반도체 제조용 노광 장치는 사용되는 광원의 종류에 따라 광학식 노광장치와 비광학식 노광장치로 구분되며, 광학식 노광장치는 사용되는 광원의 종류에 따라 KrF(248nm), ArF(193nm), F2(157nm)로 구성된 레이저계 노광장치, G-line(436nm), I-line(365nm)로 구성된 램프계 노광장치 그리고 EUV 노광장치로 구분되고 비광학식 노광장치는 사용되는 광의 종류에 따라 전자빔 노광장치, 이온빔 노광장치, X-ray 노광장치로 구분되어 있다.
a) 광학식 노광장치
노광장치에 사용되는 광원은 높은 세기와 강한 밝기를 가져야 고속으로 노광을 할 수 있다. 또한 작은 선 폭을 얻기 위해서는 짧은 파장을 사용하는 것이 좋지 만, 작은 램프에서 발산되는 빛은 짧은 파장에서 세기가 감소되므로 사용하기엔 부적당하다. 그리고 광 노출중 발생되는 열은 램프 주파수 스펙트럼 자체를 변경 시킬 뿐 아니라, 마스크의 크기를 변경시키고 투사형 시스템의 광로변경을 야기 시킬 수 있기 때문에 광학 시스템 내에 있는 공기가 가열되지 않도록 냉각시스템 을 장착하여야 한다.
a) 비(非) 광학식 노광장치
비광학식 노광장치는 광원에 따라 X선, 전자빔 그리고 이온빔 노광장치로 구 분된다. X선은 1960년대부터 1970년대 사이에 연구되어 온 입자 가속에서 얻어진 부산물로서 1GeV의 에너지를 가지고 강한 자계에 의해 진공 원형 링을 순환하는 전자에 의해 발생된다. 이 장치를 싱크로트론(Synchrotron)이라 하며 싱크로트론 에서 나온 X선을 광원에 적합하게 파장, 세기, 방향 등을 조절한다.
참고자료
· 1. 허규성. 2001. 반도체 공학.
· 2. 이종명. 2003. 반도체 기술 핸드북.
· 3. 임종성. 2000. 반도체 제조장치 입문.
· 4. 이건영. 1986. 반도체.
· 5. 황호정. 1999. 반도체 공정기술.
· 6. 특허청. 2002. 신기술 동향조사 보고서.
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