[이온플레이팅]Ion Plating(이온도금)

*현*

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최초 등록일: 2005.01.27
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이온도금관련 리포트자료입니다.

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1. 서론

Ion-Plating은 고체물질을 가열 혹은 입자를 충돌시켜 원자, 분자로 분해하고 다시 이것을 D.C나 R.F전원으로 이온화시켜 처리물질의 표면에 응축시켜서 박막을 형성하는 방법이다.
일반적으로 이온플레이팅에 의해 형성된 막은 in-site cleaning process 확산층 형성때문에 종래의 진공증착이나 습식도금에 비하여 밀착력이 50～100배 뛰어나며, 방전에 의한 활성화 효과로 균일한 화합물 막을 쉽게 얻을 수 있다. 이러한 장점을 보유한 이온플레이팅은 제품의 고급화와 경량화 추세에 따라 항공기 부품 및 초경공구, 의료기부품, 각종 기계부품, 시계부품, 악세사리(피어싱)등 산업 전반에 널리 응용되고 있으며 습식도금 업계의 폐수 발생으로 인하여 많은 업체가 이온플레이팅 코팅으로 전환하려고 하는 추세에 있다.

2. Ion-Plating의 개요

이온 플레이팅은 진공챔버(Chamber)내에 아르곤 등의 가스를 주입하여 약 10 torr의 고진공 상태에서 플라즈마를 일으켜, 증착물질과 가스를 이온화하여 증착될 물체에 높은 에너지를 가지고 증착하게 하는 일종의 진공증착법이다.
진공증착에서는 증착물질에서 증발한 분자(원자)가 곧바로 표면에 날아와 퇴적하는데 그치는 반면 이온 플레이팅의 경우 증발분자들이 증착 될 판재의 표면에 날아와서 높은 에너지로 퇴적한 입자를 격렬하게 휘젓기 때문에 진공증착보다 훨씬 치밀하고 단단한 막을 형성한다.

참고 자료

(1). http://www.shpic.co.kr/main01.htm
(2). http://metal.or.kr/new/college/lecture/heattreat/heat09-07-04.htm

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