유기소재실험2_고분자_표면개질_접촉각

소개

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목차

Ⅰ. 예비보고서
1. 실험제목
2. 이론 및 배경

Ⅱ. 결과보고서
1. 실험목적
2. 실험기기 및 시약
3. 실험방법
4. 결과, 고찰

본문내용

1. 실험제목 : 고분자 표면개질/접촉각

2. 이론 및 배경

1) 플라즈마를 통한 고분자 필름 표면개질의 원리
플라즈마 상태에 놓인 높은 에너지를 가진 입자가 어떤 재료의 표면에 충돌하는 경우 그 에너지는 충돌되는 재료의 표면에 전달 될 수 있게 되는데 이러한 현상을 이용하는 것이 플라즈마 표면처리의 기본 원리이다.
고분자 개질 공정은 표면 분자층 내의 고분자구조나 원소조성을 변환시켜 탄소와 수소의 결합을 관능기로 교환시킨다. 이때 도입되는 관능기의 종류는 처리가스에 따라 다른데 주로 사용되는 전형적인 가스 종류는 아래와 같다. 이들 관능기들은 표면에 보다 좋은 점착성, 젖음성, 생체 적합성 또는 불활성 특성을 부여한다.

<플라즈마 표면처리시 일반적으로 사용되는 가스>

플라즈마 중합 또는 플라즈마 CVD 공정은 기질 표면을 미크론 단위의 대단히 얇은 코팅을 하는 것으로 기존의 중합과 달리 플라즈마 중합은 탄소 또는 실리콘을 함유하는 모든 모노머 가스 또는 증기를 사용할 수 있다.

참고자료

· 환경 친화적 건식가공 저압가스·플라즈마 처리 가공기술, Vol 37, No. 7, KOTITI시험연구원