PDMS를 이용한 Micro pyramid 제작

소개글

PDMS를 이용한 마이크로 피라미드 제작하기

목차

1.실험목적
2.이론적 배경
3.실험방법
4.실험결과
5.고찰
6.출처

본문내용

1.실험 제목
-PDMS를 이용한 Micro pyramid 제작
실험 목적
-Si(100) wafer의 anisotropic한 성질을 이용하여 마스터를 제작한다.
-마스터로 PDMS Micro pyramid를 제작하고 빛의 변화를 관찰한다.
2. 이론적 배경
1)마스크로 포토 공정
포토 공정은 PR이 도포된 웨이퍼 위에 포토마스크를 통과한 광원을 쬐어줌으로써 원하는 패턴을 만들어 내는 작업이다.
-Exposure 과정은 빛을 이용해 웨이퍼에 회로를 그려넣는 노광을 말한다.
-Develop 과정에서 빛을 쬐어 변성된 PR을 제거해줌으로써 원하는 패턴을 가진 과자틀이 만들어지게 된다. 웨이퍼 위에 균일하게 입혀진 PR은 빛에 어떻게 반응하는가에 따라 positive 또는 negative로 분류된다. posivie 타입은 노광되지 않은 영역을 남기고 negative 타입은 노광된 영역만 남겨 사용한다.
①Positive PR (빛을 받아 분자결합이 약해진 부분의 PR을 Developer를 이용해서 제거한다. 또한 현상액에 대한 용해도가 변화하는데, 빛을 받았을 때 용해도가 올라가는 물질을 말하기도 한다.)
②Negative PR (빛을 받아 분자결합이 강해진 PR을 제외한 다른 부분을 제거한다. 또한 빛을 받았을 때 용해도가 내려가고 경화된다.)
2) #4 식각 공정에 대한 설명
•Wet etching: etchant를 이용해 식각하며 화학적 반응을 이용한다.
-등방성 식각: PR의 열린 부분을 기준으로 모든 방향으로 식각이 발생
-비등방성 식각: 특정 방향으로만 반응이 잘 일어남
웨이퍼를 액체에 담갔다 건지는 방식으로 비용이 적게 들고 간단하다. 이러한 방식은 식각 속도가 매우 빠르고 담그는 방식의 특성상 화학적 식각밖에 쓸 수 없으므로 선택비가 높다는 장점이 있다.

참고 자료

정인성, “[반도체 전공정 3편] 반도체 패턴을 만드는 포토 공정”, sk hynix newsroom, 2022.10.17,
https://news.skhynix.co.kr/post/jeonginseong-column-photo
정인성, “[반도체 전공정 4편] 그려진 패턴을 파내는 식각 공정”, sk hynix newsroom, 2022.11.25,
https://news.skhynix.co.kr/post/jeonginseong-column-etching
김승준, “500시간 구동해도 멀쩡 ‘고체산화물 연료전지’ 제작”, 국가과학기술연구회, 2020.07.15, https://blog.naver.com/nststory2014/222031354029
정재환, “3D 프린팅을 이용한 마이크로니들 제작의 최신 연구 동향”, (학부, 단국대학교, 2021), 379-380p.