이번 자료는 숭실대학교 신소재공학과 <신소재 공학 실험2>레포트 입니다.
실험 수업은 시험도 물론 중요하지만, 레포트와 실험 중의 참여도 점수도 꽤 큰 비중을 차지합니다.
그런데 이번엔 학과 개편이 일어나면서 실험 내용이 전부 바뀌게 되었습니다. 조교님들도 처음해보는 실험도 있었기에 자료를 찾는 것이 어려웠습니다. 저의 레포트가 참고가 되길 바랍니다.
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소개
이번 자료는 숭실대학교 신소재공학과 <신소재 공학 실험2>레포트 입니다.
실험 수업은 시험도 물론 중요하지만, 레포트와 실험 중의 참여도 점수도 꽤 큰 비중을 차지합니다.
그런데 이번엔 학과 개편이 일어나면서 실험 내용이 전부 바뀌게 되었습니다. 조교님들도 처음해보는 실험도 있었기에 자료를 찾는 것이 어려웠습니다. 저의 레포트가 참고가 되길 바랍니다.
목차
1. 실험 제목
2. 배경 및 이론
3. 참고 문헌
본문내용
1. Photo-lithography의 의미 및 원리
포토리소그래피는 박막 또는 기판에 부품을 패턴화하기 위해 미세 가공에 사용되는 프로세스 이다. 다시 말하면, 복잡한 회로 패턴을 제조하는 방법을 뜻한다.
참고자료
· 디스플레이공학 개론, 텍스트 북스, 김억수, 2014
· 반도체용 포토레지스트의 연구 개발 동향, 화학공학의 이론과 응용, 김상태, 2004
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