Top down, Bottom up 공정

목차

1. Top-down
1) Top-down 공정
2) Top-down 특징
3) 광식각 공정기술(Photolithography)

2. Bottom-up
1) Bottom-up 공정
2) Bottom-up 특징
3) VLS(Vapor-Liquid-Solid)공정
4) CVD(Chemical Vapor Deposition)공정

본문내용

1.1. Top-down 공정
큰 크기의 원재료로부터 나노소재를 생산하는 전략(원재료를 깎거나 분쇄해서 나노재료를 얻는 전략)으로, 원재료는 나노소재 공정처리를 함에 있어서 (재료 계의 기준으로 볼 때) 외부적인 환경에서 컨트롤이 가능해야한다. 전형적인 Top-down 공정의 예로는 mask 기반의 에칭(etching) : 리소그래피, ball milling, rapid solidification, application of severe plastic deformation 등이 있다.

1.2. Top-down 특징
큰 크기의 원재료를 밀링을 통해 분쇄하거나 etching을 통한 pattering으로 나노재료를 생산하는 공정이다. 그리고 벌크의 원자 및 분자결합을 끊어내는데 있어서 요구되는 에너지가 높은 만큼 가공비용이 비싸며, 오랜 시간이 걸린다. 또한, 비싸면서 느린 공정이기 때문에 top -down은 대량생산에 대체로 적합하지 않다.

참고자료

· 없음