화공계측실험Pre-Report (10)-Photolithography

소개

포항공대 화학공학과 전공필수 과목인
화공계측실험 보고서입니다
PRE-Report 는 실험전 사전지식을 정리하는 보고서이고
Final-Report는 실험후 결과를 정리하는 보고서 입니다.

두가지를 모두 참고하셔서 과제에 도움이 되시길 바랍니다.

목차

1. 실험 제목
2. 실험 목적
3. 이론 및 배경지식
4. 실험 장비
5. 실험 순서
6. 참고문헌

본문내용

1. 실험 제목
Photolithography
2. 실험 목적
이번 실험에서는 photolithography 과정을 수행할 것이다. 순서대로 과정을 진행하면서 우리는 micro-pattern 을 만들어내는 전자 화학적 process를 이해하는 데 초점을 맞출 것이다. 이 과정은 반도체 산업과 디스플레이 산업에서 필수적인 과정이기도 하다.
3. 이론 및 배경지식
1) Photolithography
Photolithography란 얇은 필름이나 물질에 pattern을 미세하게 가공하는 공정이다. 빛을 사용하여 기하학적인 무늬를 쉽게 만들어 낼 수 있다. 공정 중에는 빛에 민감하게 반응하는 ‘photo-resist’ 라는 물질을 surface에 바르고 그 위에 수직으로 빛을 비춘다.

참고자료

· M. Madou, Fundamentals of Microfabrication. Boca Raton, Florida, CRC Press(2002)
· Proc. SPIE 3049, Advances in Resist Technology and Processing XIV, 28 (1997)
· R. C. Jaeger, Lithography: Introduction to Microelectronic Fabrication, 2nd ed., Upper Saddle River, Prentice Hall (2002).
· B. J. Lin, Optical Lithography, SPIE Press, Bellingham, WA (2009)
· J. Photopolymer Sci. Tech., Vol.4 No.3, 299-318 (1991)