알루미늄 전해캐패시터에서 양극산화막은 유전체로서 중요한 역할을 하는데 높은 캐패시턴스를 얻기 위하여 알루미늄위에 ZrO2막을 졸-겔법으로 코팅하고 양극산화시킨 후 이들의 특성을 연구하였다. 코팅과 건조를 4~10회 반복하여 제조된 막들을 300~600℃에서 열처리하였으며 ZrO2/Al막을 양극산화 시킨 후 ZrO2/Al-ZrOx/Al2O3의 세층이 알루미늄 기판 위에 형성되었고 Al2O3층의 두께는 열처리온도가 증가함에 따라 ZrO2막의 치밀화로 인해 감소하였다. ZrO2막은 300℃에서도 미세한 결정질 구조를 가지고 성장하였으며 열처리와 양극산화 후 나타나는 알루미늄박의 캐패시턴스는 저온에서 열처리한 박이 큰 값을 보이는데 이는 ZrO2 막자체의 캐패시턴스가 큰 것에 기인한다. 400V로 양극산화한 후ZrO2막을 코팅한 알루미늄박의 캐패시턴스는 코팅하지 않은 경우보다 약 3배 정도의 큰 값을 보여 복합산화물층을 갖는 알루미늄박은 알루미늄 전해캐패시터에의 적용가능성을 보였다.
참고자료
· 없음
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